共用一個(gè)射頻源的多等離子體裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201220074242.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN202488863U | 公開(公告)日 | 2012-10-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN202488863U | 申請(qǐng)公布日 | 2012-10-10 |
分類號(hào) | H05H1/46(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
發(fā)明人 | 房永峰;張亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州匯智真空科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市吳中區(qū)木瀆鎮(zhèn)中山東路70號(hào)(科技創(chuàng)業(yè)園3102室) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種共用一個(gè)射頻源的多等離子體裝置,包括射頻源,所述射頻源通過導(dǎo)線連接有射頻源分配器,所述射頻源分配器通過導(dǎo)線連接有若干匹配器,每個(gè)所述匹配器連接有電極。本實(shí)用新型簡化了結(jié)構(gòu),降低了成本;避免了因射頻源相互干擾過程中形成鋸齒狀的波形的缺陷,可以持續(xù)地穩(wěn)定工作;具有能長時(shí)間保證等離子體的密度,實(shí)現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn);既能保證等離子體的密度,也能保證等離子體的均勻度。 |
