流體處理裝置和半導(dǎo)體處理系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122719505.1 申請日 -
公開（公告）號 CN216879063U 公開（公告）日 2022-07-05
申請公布號 CN216879063U 申請公布日 2022-07-05
分類號 B01F33/40（2022.01）I;B01F35/71（2022.01）I;B01F23/70（2022.01）I;B01F23/40（2022.01）I;B01F35/11（2022.01）I;H01L21/66（2006.01）I;B01F101/23（2022.01）N 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 溫子瑛 申請（專利權(quán)）人 無錫華瑛微電子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州簡理知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 214000江蘇省無錫市新區(qū)震澤路18號國家軟件園3期鯨魚座A棟1樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種流體處理裝置和半導(dǎo)體處理系統(tǒng)。所述流體處理裝置包括：至少兩個(gè)旋轉(zhuǎn)閥，每個(gè)旋轉(zhuǎn)閥均包括一個(gè)共有通孔和多個(gè)可選通孔，每個(gè)旋轉(zhuǎn)閥的多個(gè)可選通孔中有一個(gè)可選通孔通過管線與氣體口連通，和/或有一個(gè)可選通孔通過管線與樣品引入口連通，和/或有一個(gè)通過管線與清洗溶液口連通，其中有一個(gè)旋轉(zhuǎn)閥的一個(gè)可選通孔通過管線與樣品引出口連通；流體容器，其內(nèi)部形成有腔體，其頂部開設(shè)有多個(gè)通孔，其底部設(shè)有一個(gè)或多個(gè)通孔，其中位于頂部的一個(gè)通孔通過管線與其中一個(gè)旋轉(zhuǎn)閥的共有通孔連通，位于底部的一個(gè)通孔通過管線與其中另一個(gè)旋轉(zhuǎn)閥的共有通孔連通。其能夠自動(dòng)實(shí)現(xiàn)對不同液體樣品的精確的充分的混合，并且易于清洗。