渦旋反應釜合成裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201210449241.5 申請日 -
公開（公告）號 CN102989408A 公開（公告）日 2013-03-27
申請公布號 CN102989408A 申請公布日 2013-03-27
分類號 B01J19/24(2006.01)I;C01F7/02(2006.01)I 分類 一般的物理或化學的方法或裝置;
發(fā)明人 龔光波 申請（專利權）人 陽光金波納米材料技術股份有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 430056 湖北省武漢市武漢經(jīng)濟開發(fā)區(qū)高科技產(chǎn)業(yè)園1號樓5樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種渦旋反應釜合成裝置，包括反應釜體；還包括設置在反應釜體內(nèi)的渦旋隔離機構；所述渦旋隔離機構包括多片蝶形葉片、中心柱和上層隔離篩；所述多片蝶形葉片按照逆時針螺旋上升狀分層安裝在中心柱上；所述中心柱底部與上層隔離篩固定；所述上層隔離篩固定在反應釜體的內(nèi)壁下端。本發(fā)明在反應釜中設置渦旋隔離裝置，其蝶形葉片能形成渦旋環(huán)境，從而加速反應的進行，有助于反應物的反應完全性，為納米粒子的有序結構創(chuàng)造了良好的反應環(huán)境，因而極大地提升了轉化率，縮短了誘導時間，降低了生產(chǎn)成本，提高了反應物的循環(huán)利用率。