一種SiC IGBT器件及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010994010.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112216694A | 公開(公告)日 | 2021-01-12 |
申請公布號 | CN112216694A | 申請公布日 | 2021-01-12 |
分類號 | H01L27/06;H01L29/739;H01L21/82;H01L23/48 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 倪煒江 | 申請(專利權)人 | 蕪湖啟源微電子科技合伙企業(yè)(有限合伙) |
代理機構 | 北京邦創(chuàng)至誠知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 張宇鋒 |
地址 | 241002 安徽省蕪湖市弋江區(qū)高新技術產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)科技產(chǎn)業(yè)園1號樓104-1 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及半導體技術領域,尤其是涉及一種SiC IGBT器件及其制備方法。本發(fā)明提供的SiC IGBT器件通過在器件的表面設置肖特基二極管結(jié)構,并且在器件背面形成交替設置的N+區(qū)與P+區(qū),使器件在進行續(xù)流工作時,正面的MPS二極管(嵌入pn結(jié)構的肖特基二極管)的電流將通過N+區(qū)形成導電通路,從而實現(xiàn)集成續(xù)流二極管的功能。 |
