MOSFET晶體管
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022128933.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213459746U | 公開(公告)日 | 2021-06-15 |
申請公布號 | CN213459746U | 申請公布日 | 2021-06-15 |
分類號 | H01L29/78;H01L29/06;H01L29/417;H01L21/336 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 倪煒江 | 申請(專利權(quán))人 | 蕪湖啟源微電子科技合伙企業(yè)(有限合伙) |
代理機(jī)構(gòu) | 北京知帆遠(yuǎn)景知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 崔建鋒 |
地址 | 241002 安徽省蕪湖市弋江區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)服務(wù)外包產(chǎn)業(yè)園3號樓1804層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種MOSFET晶體管,MOSFET晶體管包括:襯底;緩沖層;漂移區(qū);摻雜基區(qū);帽層;多個(gè)溝槽;多個(gè)溝槽自帽層一側(cè)向襯底一側(cè)延伸,并延伸至漂移區(qū)內(nèi);多個(gè)重?fù)诫s區(qū),重?fù)诫s區(qū)位于漂移區(qū)內(nèi)且位于溝槽的底部,第一金屬層,第一金屬層覆蓋部分臺(tái)面、溝槽的部分底部以及和部分底部相連的側(cè)壁;柵介質(zhì)層以及柵極;第一電極和第二電極;MOSFET晶體管中具有第一原胞區(qū)和第二原胞區(qū)。由此,通過設(shè)置溝槽、第一原胞區(qū)和第二原胞區(qū),實(shí)現(xiàn)了重?fù)诫s區(qū)對溝槽柵的電場屏蔽,實(shí)現(xiàn)了摻雜基區(qū)與第二電極的電連接,同時(shí)也反并聯(lián)了肖特基二極管,在不影響原胞尺寸的基礎(chǔ)上,可以降低MOSFET晶體管的制備難度,可以降低MOSFET晶體管的生產(chǎn)成本,還可以降低MOSFET晶體管導(dǎo)通電阻。 |
