LOGO的識(shí)別方法及裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)、電子設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210331329.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114708579A 公開(kāi)（公告）日 2022-07-05
申請(qǐng)公布號(hào) CN114708579A 申請(qǐng)公布日 2022-07-05
分類號(hào) G06V20/60（2022.01）I;G06V10/42（2022.01）I;G06V10/44（2022.01）I;G06V10/82（2022.01）I;G06V10/774（2022.01）I;G06K9/62（2022.01）I;G06V10/74（2022.01）I 分類 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù);
發(fā)明人 朱彥浩;胡郡郡;唐大閏 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京明略昭輝科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華夏泰和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 100098北京市海淀區(qū)北三環(huán)西路25號(hào)27號(hào)樓二層2020室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種LOGO的識(shí)別方法及裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)、電子設(shè)備。其中，該方法包括獲取樣本LOGO圖像的全局圖像與局部圖像；通過(guò)第一模型提取所述全局圖像的第一特征向量，通過(guò)第二模型提取所述全局圖像和所述局部圖像的第二特征向量；對(duì)所述第一模型和所述第二模型進(jìn)行自監(jiān)督學(xué)習(xí)，以使所述第二特征向量逼近所述第一特征向量；將學(xué)習(xí)完成之后的第二模型輸出為殘缺LOGO識(shí)別模型。通過(guò)本發(fā)明，解決了相關(guān)技術(shù)中LOGO的識(shí)別準(zhǔn)確率不夠高的技術(shù)問(wèn)題，提高了對(duì)殘缺LOGO圖像的識(shí)別準(zhǔn)確率。