濺射均勻的真空鍍膜機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022004669.1 申請日 -
公開（公告）號 CN213172546U 公開（公告）日 2021-05-11
申請公布號 CN213172546U 申請公布日 2021-05-11
分類號 C23C14/34 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林衛(wèi)良 申請（專利權(quán)）人 溫嶺市華航電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州浙科專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 吳秉中
地址 317500 浙江省臺州市溫嶺市大溪鎮(zhèn)高田村一級公路北側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種濺射均勻的真空鍍膜機(jī)，屬于鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。它解決了現(xiàn)有真空鍍膜機(jī)濺射時不均勻的問題。本濺射均勻的真空鍍膜機(jī)，包括加工機(jī)箱，加工機(jī)箱內(nèi)具有中空的腔體，腔體內(nèi)具有用于放置產(chǎn)品的工作臺，加工機(jī)箱上設(shè)有與工作臺相配合的氣罐，氣罐與工作臺之間設(shè)置有靶材，靶材外套設(shè)有穿孔軸套，靶材的兩端架設(shè)于穿孔軸套上，穿孔軸套的兩端連接于加工機(jī)箱上且可相對加工機(jī)箱進(jìn)行轉(zhuǎn)動，加工機(jī)箱與氣罐相對應(yīng)位置處開設(shè)有供氣體穿入至墻體內(nèi)與靶材相接觸的通孔。本實(shí)用新型具有濺射均勻的優(yōu)點(diǎn)。