一種陶瓷襯底圖形化結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110574541.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113488446A | 公開(公告)日 | 2021-10-08 |
申請公布號 | CN113488446A | 申請公布日 | 2021-10-08 |
分類號 | H01L23/498(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 朱德權(quán);徐榮軍;黃世東;季瑋;王海龍 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江德匯電子陶瓷有限公司 |
代理機構(gòu) | 嘉興啟帆專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 廖銀洪 |
地址 | 312000浙江省紹興市越城區(qū)平江路2號紹興水木灣區(qū)科學(xué)園3號樓8層801 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于功率半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,尤其為一種陶瓷襯底圖形化結(jié)構(gòu)及其制造方法,所述陶瓷襯底圖形化結(jié)構(gòu)包括陶瓷基板、結(jié)合層、焊料層和銅鉑,所述結(jié)合層、焊料層和銅鉑層由內(nèi)而外依次貼合于陶瓷基板的上下表面,所述陶瓷基板、結(jié)合層、焊料層和銅鉑通過活性釬焊法制造而成的覆銅陶瓷襯底,采用曝光與顯影的方式,通過蝕刻液對覆銅陶瓷襯底進行蝕刻,形成陶瓷襯底的圖形化結(jié)構(gòu),所述陶瓷基板為氮化物陶瓷或氧化物陶瓷。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)陶瓷覆銅板圖形化,經(jīng)化學(xué)拋光處理除去不需的銅層及降低銅表面粗糙度,具有使用周期長,穩(wěn)定性好,蝕刻充分,且蝕刻液中不含磷,產(chǎn)品銅表面狀態(tài)好的優(yōu)點。 |
