一種新型射頻離子源
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201922419071.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210837644U | 公開(公告)日 | 2020-06-23 |
申請公布號 | CN210837644U | 申請公布日 | 2020-06-23 |
分類號 | H01J27/02(2006.01)I;H01J1/94(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 施春燕 | 申請(專利權(quán))人 | 四川至臻精密光學有限公司 |
代理機構(gòu) | 合肥華利知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 蘇州至臻精密光學有限公司 |
地址 | 215600江蘇省蘇州市張家港市大新鎮(zhèn)海壩路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種新型射頻離子源,具體涉及離子源技術(shù)領域,包括底座,所述底座頂部開設有第一滑槽,所述第一滑槽內(nèi)滑動連接有兩個滑塊,所述滑塊頂部固定連接有滑桿,所述滑桿外側(cè)壁滑動連接有滑套,所述滑套外壁嵌設有固定座,所述固定座內(nèi)腔兩側(cè)均開設有第二滑槽,且兩側(cè)第二滑槽內(nèi)滑動連接有滑板。本實用新型通過設置夾持板和吸熱座,射頻離子源本體固定在夾持板內(nèi)腔,吸熱的減震墊能夠?qū)崃繉電A持板和吸熱座內(nèi),兩側(cè)的吸熱座將熱量通過導熱柱導入散熱片內(nèi),空氣流動帶走散熱片表面的熱量,從而能夠有效避免熱量的堆積,與現(xiàn)有技術(shù)相比保證了射頻離子源本體工作狀態(tài)的穩(wěn)定性,滿足了使用需要。?? |
