一種三相整流模塊及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111085031.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113824337A | 公開(公告)日 | 2021-12-21 |
申請公布號 | CN113824337A | 申請公布日 | 2021-12-21 |
分類號 | H02M7/00(2006.01)I;H02M7/06(2006.01)I | 分類 | 發(fā)電、變電或配電; |
發(fā)明人 | 吳家健;王成森;孫健鋒;錢嘉麗;陸施睿 | 申請(專利權(quán))人 | 捷捷半導(dǎo)體有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 張欣欣 |
地址 | 226000江蘇省南通市崇川區(qū)蘇通科技產(chǎn)業(yè)園區(qū)井岡山路6號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┝艘环N三相整流模塊及其制作方法,涉及三相整流技術(shù)領(lǐng)域。該三相整流模塊包括底板、覆銅板、過橋、交流引出端、正極引出端、負極引出端、共陰極整流二極管芯片、共陽極整流二極管芯片以及電極片,覆銅板包括共陽覆銅區(qū)、共陰覆銅區(qū)以及交流覆銅區(qū),共陽覆銅區(qū)、共陰覆銅區(qū)以及交流覆銅區(qū)間隔設(shè)置,且共陰覆銅區(qū)位于陽覆銅區(qū)、交流覆銅區(qū)之間。本申請?zhí)峁┑娜嗾髂K及其制作方法具有散熱更加均勻,可靠性更高的優(yōu)點。 |
