硅基壓電薄膜體聲波諧振器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022742166.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213879775U | 公開(公告)日 | 2021-08-03 |
申請公布號 | CN213879775U | 申請公布日 | 2021-08-03 |
分類號 | H03H3/007(2006.01)I;H03H3/02(2006.01)I;H03H3/04(2006.01)I;H03H9/02(2006.01)I;H03H9/17(2006.01)I;H03H9/19(2006.01)I;H01L41/08(2006.01)I;H01L41/22(2013.01)I | 分類 | 基本電子電路; |
發(fā)明人 | 高安明;姜偉;劉偉 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江信唐智芯科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海段和段律師事務(wù)所 | 代理人 | 李佳俊;郭國中 |
地址 | 325038 浙江省溫州市浙南科技城創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)新天地一期1號樓506室(自主申報) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供了一種硅基壓電薄膜體聲波諧振器,包括:電極、氮化鋁壓電薄膜層(3)以及絕緣體上硅(SOI);所述電極包括:頂電極(1);所述氮化鋁壓電薄膜層(3)以及絕緣體上硅(SOI)設(shè)置于頂電極(1)的下方;所述絕緣體上硅包括:單晶硅頂層(4)、絕緣二氧化硅中間層(5)、硅襯底層;所述硅襯底層的厚度大于設(shè)定閾值;所述絕緣二氧化硅中間層(5)的厚度小于設(shè)定閾值;所述單晶硅頂層(4)的厚度大于絕緣二氧化硅中間層(5);所述單晶硅頂層(4)的厚度小于硅襯底層;本專利所提出的硅基壓電薄膜結(jié)構(gòu)結(jié)合了上述兩類諧振器的優(yōu)點,從而方便設(shè)計出同時具有高Q值和低動生阻抗的諧振器。 |
