一種真空磁控濺射用新型平面陰極

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201320857516.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN203768448U 公開（公告）日 2014-08-13
申請(qǐng)公布號(hào) CN203768448U 申請(qǐng)公布日 2014-08-13
分類號(hào) C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 梁得剛;李征;張俊峰;李桂良 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 馬鞍山子創(chuàng)功能性膜工藝研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海百一領(lǐng)御專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 上海子創(chuàng)鍍膜技術(shù)有限公司;馬鞍山子創(chuàng)功能性膜工藝研究院有限公司
地址 201506 上海市金山區(qū)亭林鎮(zhèn)金飛路808號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及到一種真空磁控濺射用新型平面陰極,其技術(shù)方案為真空磁控濺射用新型平面陰極通過(guò)真空腔體被隔離為真空側(cè)(I)和大氣側(cè)(Ⅱ),真空腔體內(nèi)設(shè)有陰極罩，其中，陰極罩與真空腔體之間設(shè)有絕緣板，絕緣板位于大氣側(cè)(Ⅱ)，可防止真空磁控濺射用新型平面陰極在鍍膜過(guò)程中膜層的附著導(dǎo)致絕緣失效,在所述真空側(cè)內(nèi)的陰極罩上端安裝有銅背板，銅背板的外側(cè)焊接靶材,使得絕緣效果良好、穩(wěn)定、安裝方便。由于在屏蔽罩的外側(cè)設(shè)有輔助陽(yáng)極罩，從而使得靶材點(diǎn)火方便，保證鍍膜效果均勻，提高了靶材利用率。