防殘留負壓儲氫裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911356116.8 申請日 -
公開（公告）號 CN111076081B 公開（公告）日 2021-08-17
申請公布號 CN111076081B 申請公布日 2021-08-17
分類號 F17C1/00;F17C13/04 分類 氣體或液體的貯存或分配;
發(fā)明人 周聯(lián)群;周廷云 申請（專利權(quán)）人 特佳星能源科技有限公司
代理機構(gòu) 北京海虹嘉誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 胡博文
地址 300000 天津市武清區(qū)上馬臺鎮(zhèn)金源路8號208室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種防殘留負壓儲氫裝置，包括儲氣罐、位于儲氣罐內(nèi)的若干個分隔盤和若干個移動壓盤以及氣管，若干個分隔盤軸向排列并連接于儲氣罐內(nèi)圓使相鄰分隔盤之間形成獨立的儲氣腔，所述氣管同軸設(shè)置于儲氣罐內(nèi)，若干個移動壓盤連接于氣管上并一一對應(yīng)位于儲氣腔內(nèi)，氣管對應(yīng)于各儲氣腔開設(shè)有貫通于該儲氣腔的氣孔，所述儲氣罐外圓開設(shè)有一一對應(yīng)貫通于儲氣腔內(nèi)的排氣口，所述氣管一端密封另一端穿出儲氣罐作為通氣口；本發(fā)明在在加注氫氣時，通過形成負壓環(huán)境，可極大改善了由于加注口處壓力過大導(dǎo)致的泄露現(xiàn)象；在排氫氣時，通過壓縮氣體，輔助氫氣的排出，可完全排出儲氣腔內(nèi)的氫氣，減小氫氣殘留，改善氫氣浪費現(xiàn)象。