非制冷紅外焦平面陣列非均勻性校正的方法和裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201410820351.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104677501B | 公開(公告)日 | 2017-11-24 |
申請公布號 | CN104677501B | 申請公布日 | 2017-11-24 |
分類號 | G01J5/00(2006.01)I;G01J5/10(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 雷述宇 | 申請(專利權(quán))人 | 廣微科技集團(tuán)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京漢昊知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 廣微科技集團(tuán)有限公司 |
地址 | 100022 北京市朝陽區(qū)建國門外大街甲6號中環(huán)世貿(mào)C座5層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種非制冷紅外焦平面陣列非均勻性校正的方法。所述方法包括:a、對非制冷紅外焦平面陣列上的每個像元在兩個目標(biāo)溫度下進(jìn)行兩次測試,得到第一和第二目標(biāo)溫度下每個像元的輸出電壓;b、分別對所述第一和第二目標(biāo)溫度下所有像元的輸出電壓求平均值。c、根據(jù)所述平均值,分別計(jì)算各像元在第一和第二目標(biāo)溫度下的輸出電壓值與該溫度下所有像元的輸出電壓平均值的輸出電壓差異量;d、依次對各像元在第一和第二目標(biāo)溫度下得到的兩個輸出電壓差異量進(jìn)行運(yùn)算,得到各像元所需的電壓調(diào)節(jié)量;e、根據(jù)所述各像元的電壓調(diào)節(jié)量在查找表中查詢所需DAC偏移量;f、用所述的DAC偏移量對各像元的輸出進(jìn)行校正,完成對整個陣列非均勻性校正。 |
