一種高遷移率、高透光IGZO薄膜的制備方法及其應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111452165.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114134475A | 公開（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114134475A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-04 |
| 分類號(hào) | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 羅派峰;孫甲;張兵;曾墩風(fēng);王志強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 蕪湖映日科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 合肥云道爾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 陳蘭 |
| 地址 | 230000安徽省合肥市屯溪路193號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種高遷移率、高透光IGZO薄膜的制備方法及其應(yīng)用，所述方法包括以下步驟：將高透玻璃依次放置在丙酮、乙醇、去離子水中超聲清洗各20min，將超聲清洗完成后的高透玻璃用氮?dú)獯蹈?，并放置?20℃恒溫加熱臺(tái)上加熱10min，蒸發(fā)玻璃表面的水分；將清潔后的高透玻璃放置到磁控濺射鍍膜設(shè)備中，并將IGZO靶材固定在鍍膜設(shè)備的陰極上，抽真空至9×10?5Pa，通入氧氣與氬氣混合氣體，打開濺射電源，預(yù)濺10min，打開擋板和自轉(zhuǎn)電機(jī)，濺射沉積IGZO薄膜；將濺射完成的IGZO薄膜放置到管式爐中，退火過程中持續(xù)通過干燥空氣，退火溫度為150～250℃，退火時(shí)間為60min。本發(fā)明在降低薄膜制備成本的同時(shí)，能夠有效提高薄膜的透過率和遷移率。 |
