稀土離子摻雜ITO靶材的制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111234757.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114032517A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-02-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114032517A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-11 |
分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王志強(qiáng);馬建保;林燕明;曾墩風(fēng);陶成;畢榮鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蕪湖映日科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京正聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 楊靜 |
地址 | 241000安徽省蕪湖市中國(guó)(安徽)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)蕪湖片區(qū)衡山路南側(cè)、鳳鳴湖北路西側(cè)1#廠房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種稀土離子摻雜ITO靶材的制備方法,屬于ITO靶材領(lǐng)域,通過(guò)粉末真空上料?粉末粗磨??粉末精磨?粉末納米級(jí)砂磨?漿料配膠?噴霧造粒?混合過(guò)篩制得ITO靶材的粉末,再進(jìn)行干壓、冷等靜壓成型?素坯進(jìn)行車(chē)削加工?燒結(jié)?機(jī)加工?綁定檢測(cè),通過(guò)添加稀土氧化物粉體,解決了高銦錫比ITO靶材致密度不高、容易開(kāi)裂的問(wèn)題,提高了薄膜的載流子遷移率,可以更好地應(yīng)用于太陽(yáng)能電池行業(yè)。 |
