密集引腳器件的搪錫系統(tǒng)及方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010358466.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111390324A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-07-10 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111390324A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-07-10 |
| 分類號(hào) | B23K3/00(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 周旋;王海英;檀正東;王海明;蔡云峰;朱繼元;羅小軍;尹幫前 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 深圳市艾貝特電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳理之信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 深圳市艾貝特電子科技有限公司 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市寶安區(qū)福永街道大洋路90號(hào)中糧（福安）機(jī)器人智造產(chǎn)業(yè)園孵化器第13棟3樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明適用于集成電路焊接技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明公開(kāi)一種密集引腳器件的搪錫系統(tǒng)及方法，其中密集引腳器件的搪錫系統(tǒng)包括搪錫裝置，該搪錫裝置包括搪錫噴嘴，該搪錫噴嘴包括使設(shè)有出錫口的噴嘴本體，所述噴嘴本體設(shè)有使液態(tài)焊錫從其表面錫流形成焊錫膜的弧形斜面，該焊錫膜的厚度自上而逐漸變薄。由于所述噴嘴本體外側(cè)表面設(shè)有為弧形斜面，在出錫量為恒定時(shí)，流經(jīng)具有弧形斜面的噴嘴本體時(shí)，形成自上而下逐漸變薄的錫膜。搪錫時(shí)根據(jù)引腳密集確定引腳通過(guò)錫膜的位置進(jìn)行搪錫，又能通過(guò)表面弧面結(jié)構(gòu)保證搪錫時(shí)，器件的引腳面與弧形斜面接觸面較小，同時(shí)在錫流動(dòng)量共同作用下，使得在搪焊過(guò)程中不容易在兩引腳之間形成連錫現(xiàn)象，避免搪焊時(shí)出現(xiàn)連錫現(xiàn)象。?? |
