一種石墨烯薄膜的制備方法及含有石墨烯薄膜的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810663151.3 申請日 -
公開（公告）號 CN110629188A 公開（公告）日 2019-12-31
申請公布號 CN110629188A 申請公布日 2019-12-31
分類號 C23C16/26（2006.01）; C23C16/04（2006.01）; C23C16/513（2006.01）; C01B32/186（2017.01） 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 田小讓; 何延如; 趙冠超; 李立偉; 孟原; 郭鐵 申請（專利權(quán)）人 新奧光伏能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 黃志華
地址 065001 河北省廊坊市廊坊經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)華祥路106號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種石墨烯薄膜的制備方法及含有石墨烯薄膜的裝置，該制備方法包括：在金屬基底上形成鈍化層；在鈍化層上形成孔洞，使得通過孔洞漏出金屬基底；在露出金屬基底的孔洞上形成石墨烯薄膜，并且石墨烯薄膜覆蓋鈍化層。通過在金屬基底表面覆蓋一層鈍化層，然后在鈍化層上形成孔洞，實現(xiàn)了對金屬基底的選擇性鈍化處理，使得金屬基底具有催化能力的區(qū)域面積和數(shù)量可控，從而使得石墨烯薄膜的生長速度可控。