一種光罩

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023309034.9 申請日 -
公開（公告）號 CN213934537U 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN213934537U 申請公布日 2021-08-10
分類號 G03F1/38（2012.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 楊鵬;陳勝;江勇;顧浩宇 申請（專利權(quán)）人 蘇州科陽半導(dǎo)體有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 215143江蘇省蘇州市蘇州相城經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)漕湖產(chǎn)業(yè)園方橋路568號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種光罩，用于在刻蝕槽處光刻形成金屬重布線，刻蝕槽包括處于槽頂部的上拐角和處于槽底部的下拐角，刻蝕槽沿水平面上的第一方向延伸。光罩包括透明基板和阻光圖形。阻光圖形設(shè)置在透明基板上，阻光圖形能夠阻擋激光束或紫外光穿過透明基板，阻光圖形包括沿水平面上第二方向延伸的第一阻光區(qū)，第一方向與第二方向相垂直，第一阻光區(qū)上設(shè)有加寬部和內(nèi)凹部，加寬部凸設(shè)在第一阻光區(qū)的邊緣處，內(nèi)凹部凹設(shè)在第一阻光區(qū)的邊緣處，且加寬部在刻蝕槽上的投影在上拐角處，內(nèi)凹部在刻蝕槽上的投影在下拐角處。本實用新型降低了重布線在刻蝕槽處發(fā)生短路或斷路的可能性，保證了重布線的功能，提高了產(chǎn)品的合格率。