一種低損耗的合波裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023312982.8 申請日 -
公開（公告）號 CN214151272U 公開（公告）日 2021-09-07
申請公布號 CN214151272U 申請公布日 2021-09-07
分類號 G02B27/10（2006.01）I;G02B6/42（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 袁文瑞;葉記池;畢軍;范文明 申請（專利權(quán)）人 昂納科技（深圳）集團股份有限公司
代理機構(gòu) 深圳市道臻知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳琳
地址 518000廣東省深圳市坪山區(qū)翠景路35號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及光模塊領(lǐng)域，具體涉及一種低損耗的合波裝置；所述合波裝置包括多個第一合波單元、第二合波單元以及波片，所述第一合波單元包括第一光學(xué)鏡片和濾光片，1束入射光經(jīng)第一光學(xué)鏡片光路改變后射入濾光片，并反射輸出，1束入射光經(jīng)濾光片透射后與其反射輸出的光束進行合光，經(jīng)多個第一合波單元合光輸出的光束經(jīng)波片射入第二合波單元，并經(jīng)其合波輸出；本實用新型通過設(shè)置一種新型的低損耗合波裝置，將高端鍍膜技術(shù)運用到產(chǎn)品中，實現(xiàn)了高穩(wěn)定性的合波功能，且入射光經(jīng)多次透射或反射后可實現(xiàn)對全部入射光進行合光，無需吸收一部分光，有效降低了在合波過程中的光損耗，且不同通道的光程和插損的一致性高，有效提高了合波的穩(wěn)定性。