MEMS傳感器及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510439014.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN106365115B | 公開(公告)日 | 2019-08-23 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN106365115B | 申請(qǐng)公布日 | 2019-08-23 |
分類號(hào) | B81C3/00;B81C1/00;B81B7/00;B81B7/02 | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
發(fā)明人 | 毛劍宏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海麗恒光微電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 上海麗恒光微電子科技有限公司 |
地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)龍東大道3000號(hào)5號(hào)樓501B室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種MEMS傳感器及其制備方法,包括步驟:提供一包含有CMOS電路的第一半導(dǎo)體基底,及包含有MEMS器件的第二半導(dǎo)體基底;鍵合第一半導(dǎo)體基底和第二半導(dǎo)體基底;在所述第二半導(dǎo)體基底上形成第一互連插塞;在所述第一半導(dǎo)體基底和第二半導(dǎo)體基底上形成貫通第二半導(dǎo)體基底的第二互連插塞;第二半導(dǎo)體基底表面形成導(dǎo)電互連第一互連插塞和第二互連插塞的金屬互連層,可以解決CMOS電路和MEMS器件之間的電學(xué)連接問題,簡化封裝方法。 |
