一種可優(yōu)化真空鍍膜基板溫度的冷水板裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020617963.7 申請日 -
公開（公告）號 CN212610881U 公開（公告）日 2021-02-26
申請公布號 CN212610881U 申請公布日 2021-02-26
分類號 C23C14/50(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫廣大 申請（專利權(quán)）人 廣東生波爾光電技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 中山市捷凱專利商標代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 石仁
地址 528400廣東省中山市板芙鎮(zhèn)深灣村街上隊“牛長嶺”三號(一層301座)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及真空鍍膜基板溫度冷卻的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種可優(yōu)化真空鍍膜基板溫度的冷水板裝置。包括設于鍍膜箱體內(nèi)的冷卻水管安裝底板、與冷卻水管安裝底板拼裝的防污板以及設于所述冷卻水管安裝底板與防污板之間輸送冷卻水的冷卻水管，其特征在于：所述冷卻水管安裝底板上設有供所述冷卻水管鑲嵌于其中的槽，盤式走線設計的冷卻水管鑲嵌在冷卻水管安裝底板的槽上，增大了冷卻水管與冷卻水管安裝底板的接觸面積，結(jié)構(gòu)精巧緊湊，達到快速導熱的功能，提高冷卻效果，使得真空鍍膜基板溫度的冷卻效率加快，從而減少生產(chǎn)節(jié)拍時間，節(jié)約整體設備能耗。??