特種工件真空鍍膜控制系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020614914.8 申請日 -
公開（公告）號 CN213086105U 公開（公告）日 2021-04-30
申請公布號 CN213086105U 申請公布日 2021-04-30
分類號 C23C14/56;C23C14/54 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李星;鐘玉盛;徐從高 申請（專利權(quán)）人 廣東生波爾光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 石仁
地址 528400 廣東省中山市板芙鎮(zhèn)深灣村街上隊“牛長嶺”三號(一層301座)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型實施例公開了一種特種工件真空鍍膜控制系統(tǒng)，至少包括：第二控制單元；翻板閥啟閉驅(qū)動單元，驅(qū)動翻板閥向上或向下翻轉(zhuǎn)；傳送驅(qū)動單元，驅(qū)動傳送機(jī)構(gòu)運轉(zhuǎn)，以傳送工件；第一泵組驅(qū)動單元，驅(qū)動第一泵組啟動；第一插板閥啟閉驅(qū)動單元，驅(qū)動第一插板閥的開啟或關(guān)閉；第二泵組驅(qū)動單元，驅(qū)動第二泵組啟動；離子源啟動單元，控制第一離子源室和第二離子源室啟動離子源；中頻電源啟動單元，控制第一鍍膜工藝室和第二鍍膜工藝室啟動中頻電源；第二插板閥啟閉驅(qū)動單元，驅(qū)動第二插板閥的開啟或關(guān)閉。本實用新型實施例，通過真空鍍膜控制系統(tǒng)，至少可按鍍膜工序的要求實現(xiàn)對真空鍍膜設(shè)備的全自動化控制，有利于實現(xiàn)工件鍍膜全自動化處理，自動化程度高。