940nm窄帶濾光片及其遞變膜系設(shè)計(jì)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201810049492.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108169831A | 公開(公告)日 | 2018-06-15 |
申請公布號 | CN108169831A | 申請公布日 | 2018-06-15 |
分類號 | G02B5/20;G02B1/10 | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 陳剛 | 申請(專利權(quán))人 | 無錫奧芬光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 殷紅梅;任月娜 |
地址 | 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)新洲路18路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種940nm窄帶濾光片及其設(shè)計(jì)方法,包括基板、第一遞變膜堆和第二遞變膜堆,第一遞變膜堆沉積在基板上表面,第二遞變膜堆設(shè)置于第一遞變膜堆上表面,膜系結(jié)構(gòu)為:Sub│(α1Hβ1Lα2Hβ2L…αnHβnL)(i1Hk1Li2Hk2L…inHknL)│Air;第一遞變膜堆和第二遞變膜堆中高折射率材料膜層光學(xué)厚度系數(shù)形成的曲線與低折射率材料膜層的光學(xué)厚度系數(shù)形成的曲線分別為正弦曲線中的0~π/2、π/2~π、π~3π/2或3π/2~2π數(shù)值區(qū)間內(nèi)的波形,兩條曲線遞變趨勢相反。本發(fā)明采用通用折射率膜料、真空蒸鍍法、低成本制備出940nm窄帶濾光片,該濾光片具有中心波長為940nm的窄帶透過光譜,透射帶的上升沿和下降沿陡峭,波形矩形度好。 |
