一種真空鍍膜機的充氣系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820360461.3 申請日 -
公開（公告）號 CN208151469U 公開（公告）日 2018-11-27
申請公布號 CN208151469U 申請公布日 2018-11-27
分類號 C23C14/24 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請（專利權(quán)）人 無錫奧芬光電科技有限公司
代理機構(gòu) 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 殷紅梅
地址 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)新洲路18路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種真空鍍膜機的充氣系統(tǒng)，進氣管道一端連接大氣另一端連接所述真空鍍膜機的真空腔室，進氣管道一端設(shè)置有進氣口，另一端開設(shè)充氣口；在靠近進氣口一端的進氣管道上設(shè)置一控制閥，所述進氣管道通過充氣口連接兩根充氣管，所述兩根充氣管呈交叉貫通的形式，在每根充氣管上均勻排列設(shè)有多個規(guī)格相同的出氣孔，所述出氣孔沿著充氣管的徑向開設(shè)，所有出氣孔在充氣管的軸向依次布置。經(jīng)充氣口充入的高速氣體噴射到真空腔室內(nèi)交叉貫通的充氣管內(nèi)，充氣管吸收充入氣體的沖擊性，同時改變充入氣體在真空腔室內(nèi)的擴散方式，充入氣體經(jīng)由充氣管上規(guī)則分布的氣孔，平緩均勻分散的從真空腔室頂部充入底部，減緩了充氣系統(tǒng)的氣體沖擊性。