一種用于發(fā)光二極管襯底剝離的裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201110091809.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102738314B | 公開(公告)日 | 2014-12-03 |
申請公布號 | CN102738314B | 申請公布日 | 2014-12-03 |
分類號 | H01L33/00(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王明敏 | 申請(專利權(quán))人 | 同方光電科技有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 100083 北京市海淀區(qū)清華同方科技廣場A座29層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種用于發(fā)光二極管襯底剝離的裝置,涉及半導(dǎo)體發(fā)光二極管技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的剝離結(jié)構(gòu)包括倒置的發(fā)光二極管和倒置的發(fā)光二極管下方的支撐襯底。所述發(fā)光二極管包括依次置于藍寶石襯底上方的緩沖層、N型半導(dǎo)體層、發(fā)光層、P型半導(dǎo)體層和反射層。其結(jié)構(gòu)特點是,所述剝離結(jié)構(gòu)的外圍置有從支撐襯底下方至藍寶石襯底處的固體支撐,固體支撐和剝離結(jié)構(gòu)之間填充粘膠,粘膠的上端用所設(shè)金屬壓環(huán)密封。本發(fā)明能避免氮化鎵系垂直發(fā)光二極管在剝離時導(dǎo)致的過沖現(xiàn)象以及引入的較大顆粒污物引起的非正常掩蔽現(xiàn)象,提高產(chǎn)品的良率,適用于高頻率激光器的使用,提高生產(chǎn)效率。 |
