一種適用于大電流驅(qū)動(dòng)的氮化物L(fēng)ED外延結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201210508820.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN103855262A | 公開(公告)日 | 2014-06-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103855262A | 申請(qǐng)公布日 | 2014-06-11 |
分類號(hào) | H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 馬亮;梁信偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 同方光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 100083 北京市海淀區(qū)清華同方科技廣場(chǎng)A座29層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種適用于大電流驅(qū)動(dòng)的氮化物L(fēng)ED外延結(jié)構(gòu),涉及LED光電子器件的制造技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明結(jié)構(gòu)從襯底開始自下而上依次包括:n型化合物半導(dǎo)體、有源區(qū)和p型化合物半導(dǎo)體三部分。其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是,所述有源區(qū)是由m個(gè)量子阱和m+1個(gè)量子壘交替堆疊而成,其中,m為任意自然數(shù),量子壘的最大禁帶寬度大于相鄰量子阱的最大禁帶寬度,不同量子壘的最大禁帶寬度或膜層厚度呈現(xiàn)漸變方式分布。同現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明能減小或者消除氮化物L(fēng)ED在大電流驅(qū)動(dòng)條件下的“能效降低”問(wèn)題,提高器件的量子效率。 |
