用于大型結(jié)構(gòu)物變形或位移參數(shù)的自校準(zhǔn)式測量裝置及方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610628659.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN106197287B | 公開(公告)日 | 2018-10-02 |
申請公布號 | CN106197287B | 申請公布日 | 2018-10-02 |
分類號 | G01B11/02;G01B11/16 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 高文武;屈戰(zhàn)輝 | 申請(專利權(quán))人 | 西安敏文測控科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安文盛專利代理有限公司 | 代理人 | 西安敏文測控科技有限公司 |
地址 | 710100 陜西省西安市航天基地神舟四路航創(chuàng)國際廣場A區(qū)六樓607室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種用于大型結(jié)構(gòu)物變形或位移參數(shù)的自校準(zhǔn)式測量裝置和方法,包括成像系統(tǒng)和安裝在大型結(jié)構(gòu)物測量點上的不少于一只的測量靶標(biāo),還包括安裝在大型結(jié)構(gòu)物上變形或位移變化可忽略區(qū)域的基準(zhǔn)靶標(biāo),基準(zhǔn)靶標(biāo)和測量靶標(biāo)在成像系統(tǒng)的敏感元的不同位置上成像,測量點的位移或變形參數(shù)根據(jù)測量靶標(biāo)的結(jié)果和基準(zhǔn)靶標(biāo)的結(jié)果計算得到。本發(fā)明而克服了測量系統(tǒng)因環(huán)境溫度、時效性或成像系統(tǒng)因自身安裝基礎(chǔ)變形引起的測量誤差,提高了測量精度。 |
