用于大型結(jié)構(gòu)物垂直位移或變形的自校準(zhǔn)式測(cè)量裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610629370.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN106197288B 公開（公告）日 2018-10-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN106197288B 申請(qǐng)公布日 2018-10-02
分類號(hào) G01B11/02;G01B11/16 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 高文武;徐克強(qiáng);郭敏;李運(yùn)輸 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 西安敏文測(cè)控科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安文盛專利代理有限公司 代理人 西安敏文測(cè)控科技有限公司
地址 710100 陜西省西安市航天基地神舟四路航創(chuàng)國(guó)際廣場(chǎng)A區(qū)六樓607室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于大型結(jié)構(gòu)物垂直位移或變形參數(shù)的自校準(zhǔn)式測(cè)量裝置和方法，包括數(shù)據(jù)處理中心、成像系統(tǒng)、基準(zhǔn)靶標(biāo)、靜力水準(zhǔn)儀和不少于一只的測(cè)量靶標(biāo)，所述的靜力水準(zhǔn)儀包括若干只沉降探頭和通液管，所述的沉降探頭和測(cè)量靶標(biāo)固定在大型結(jié)構(gòu)物的側(cè)壁或頂部，所述的基準(zhǔn)靶標(biāo)設(shè)置在其中某只沉降探頭上，且基準(zhǔn)靶標(biāo)和測(cè)量靶標(biāo)在成像系統(tǒng)的敏感元的不同位置上成像，數(shù)據(jù)處理中心獲取靜力水準(zhǔn)儀和成像系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果后，根據(jù)沉降探頭、基準(zhǔn)靶標(biāo)和測(cè)量靶標(biāo)的測(cè)量結(jié)果，計(jì)算得到測(cè)量點(diǎn)的位移或變形參數(shù)，本發(fā)明克服了測(cè)量系統(tǒng)因成像系統(tǒng)受到載荷或自身安裝基礎(chǔ)變形等原因而產(chǎn)生的位移，最終導(dǎo)致系統(tǒng)的測(cè)量誤差，提高了測(cè)量精度。