用于大型結(jié)構(gòu)物垂直位移或變形的自校準(zhǔn)式測量裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201620833764.3 申請日 -
公開（公告）號 CN206223095U 公開（公告）日 2017-06-06
申請公布號 CN206223095U 申請公布日 2017-06-06
分類號 G01B11/02(2006.01)I;G01B11/16(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 高文武;徐克強(qiáng);郭敏;李運(yùn)輸 申請（專利權(quán)）人 西安敏文測控科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安文盛專利代理有限公司 代理人 西安敏文測控科技有限公司
地址 710100 陜西省西安市航天基地神舟四路航創(chuàng)國際廣場A區(qū)六樓607室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于大型結(jié)構(gòu)物垂直位移或變形參數(shù)的自校準(zhǔn)式測量裝置，包括數(shù)據(jù)處理中心、成像系統(tǒng)、基準(zhǔn)靶標(biāo)、靜力水準(zhǔn)儀和不少于一只的測量靶標(biāo)，所述的靜力水準(zhǔn)儀包括若干只沉降探頭和通液管，所述的沉降探頭和測量靶標(biāo)固定在大型結(jié)構(gòu)物的側(cè)壁或頂部，所述的基準(zhǔn)靶標(biāo)設(shè)置在其中某只沉降探頭上，且基準(zhǔn)靶標(biāo)和測量靶標(biāo)在成像系統(tǒng)的敏感元的不同位置上成像，數(shù)據(jù)處理中心獲取靜力水準(zhǔn)儀和成像系統(tǒng)的測量結(jié)果后，根據(jù)沉降探頭、基準(zhǔn)靶標(biāo)和測量靶標(biāo)的測量結(jié)果，計算得到測量點的位移或變形參數(shù)，本實用新型克服了測量系統(tǒng)因成像系統(tǒng)受到載荷或自身安裝基礎(chǔ)變形等原因而產(chǎn)生的位移，最終導(dǎo)致系統(tǒng)的測量誤差，提高了測量精度。