用于大型結(jié)構(gòu)物變形或位移參數(shù)的自校準(zhǔn)式測(cè)量裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201620834141.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN206223096U 公開(kāi)（公告）日 2017-06-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN206223096U 申請(qǐng)公布日 2017-06-06
分類號(hào) G01B11/02(2006.01)I;G01B11/16(2006.01)I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 高文武;屈戰(zhàn)輝 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 西安敏文測(cè)控科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安文盛專利代理有限公司 代理人 西安敏文測(cè)控科技有限公司
地址 710100 陜西省西安市航天基地神舟四路航創(chuàng)國(guó)際廣場(chǎng)A區(qū)六樓607室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于大型結(jié)構(gòu)物變形或位移參數(shù)的自校準(zhǔn)式測(cè)量裝置，包括成像系統(tǒng)和安裝在大型結(jié)構(gòu)物測(cè)量點(diǎn)上的不少于一只的測(cè)量靶標(biāo)，還包括安裝在大型結(jié)構(gòu)物上變形或位移變化可忽略區(qū)域的基準(zhǔn)靶標(biāo)，基準(zhǔn)靶標(biāo)和測(cè)量靶標(biāo)在成像系統(tǒng)的敏感元的不同位置上成像，測(cè)量點(diǎn)的位移或變形參數(shù)根據(jù)測(cè)量靶標(biāo)的結(jié)果和基準(zhǔn)靶標(biāo)的結(jié)果計(jì)算得到。本實(shí)用新型而克服了測(cè)量系統(tǒng)因環(huán)境溫度、時(shí)效性或成像系統(tǒng)因自身安裝基礎(chǔ)變形引起的測(cè)量誤差，提高了測(cè)量精度。