一種半導(dǎo)體蝕刻的液體增壓系統(tǒng)的控制方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110317325.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113035757A | 公開（公告）日 | 2021-06-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113035757A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-25 |
| 分類號(hào) | H01L21/67;G05D27/02 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 熊繹;劉峻;高揚(yáng);張晶晶;顧思;朱穎怡 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 安徽中科新源半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京和信華成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 管林林 |
| 地址 | 226500 江蘇省南通市如皋市城南街道電信東一路3號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體蝕刻的液體增壓系統(tǒng)的控制方法，液體增壓系統(tǒng)應(yīng)用于半導(dǎo)體制程過程中的更換，控制方法包括：上位機(jī)根據(jù)不同半導(dǎo)體制程提供液體增壓系統(tǒng)所需的操作目標(biāo)命令；監(jiān)控液體增壓系統(tǒng)的操作參數(shù)；確定用于液體增壓系統(tǒng)的操作目標(biāo)命令與液體增壓系統(tǒng)的操作參數(shù)中的對(duì)應(yīng)操作參數(shù)之間的誤差值；誤差值大于15%L/Min時(shí)，使用PID控制器基于誤差值來確定排程的PID增益，基于修改后的排程PID增益來確定用于液體增壓系統(tǒng)的系統(tǒng)控制命令，以及基于用于液體增壓系統(tǒng)的系統(tǒng)控制命令來控制液體增壓系統(tǒng)，本發(fā)明通過調(diào)節(jié)液體流量的恒速，提高了蝕刻的質(zhì)量。 |
