防止冷點偏移裝置以及光學(xué)晶體生長設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021330222.7 申請日 -
公開（公告）號 CN212713843U 公開（公告）日 2021-03-16
申請公布號 CN212713843U 申請公布日 2021-03-16
分類號 C30B15/20(2006.01)I;C30B28/10(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 楊勇;賴維明 申請（專利權(quán)）人 成都東駿激光股份有限公司
代理機構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 畢翔宇
地址 611600四川省成都市蒲江縣鶴山鎮(zhèn)工業(yè)開發(fā)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及光學(xué)晶體生長設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種防止冷點偏移裝置以及光學(xué)晶體生長設(shè)備。一種防止冷點偏移裝置，包括：坩堝、固定構(gòu)件以及加熱件；坩堝設(shè)置在所述固定構(gòu)件上，加熱件環(huán)繞所述坩堝設(shè)置；固定構(gòu)件能夠固定坩堝以使坩堝與加熱件同軸。本申請中利用固定構(gòu)件固定坩堝，使得坩堝與所述加熱件同軸，即保證了坩堝的軸線與加熱件發(fā)出熱量構(gòu)成的溫場的軸線重合，從而確保晶體的冷點不偏移，有利于引晶和放肩，保證了坩堝內(nèi)的晶體各處生長速率一致。??