防止冷點偏移裝置以及光學晶體生長設備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021330222.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212713843U | 公開(公告)日 | 2021-03-16 |
申請公布號 | CN212713843U | 申請公布日 | 2021-03-16 |
分類號 | C30B15/20(2006.01)I;C30B28/10(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 楊勇;賴維明 | 申請(專利權)人 | 成都東駿激光股份有限公司 |
代理機構 | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 畢翔宇 |
地址 | 611600四川省成都市蒲江縣鶴山鎮(zhèn)工業(yè)開發(fā)區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請涉及光學晶體生長設備技術領域,尤其是涉及一種防止冷點偏移裝置以及光學晶體生長設備。一種防止冷點偏移裝置,包括:坩堝、固定構件以及加熱件;坩堝設置在所述固定構件上,加熱件環(huán)繞所述坩堝設置;固定構件能夠固定坩堝以使坩堝與加熱件同軸。本申請中利用固定構件固定坩堝,使得坩堝與所述加熱件同軸,即保證了坩堝的軸線與加熱件發(fā)出熱量構成的溫場的軸線重合,從而確保晶體的冷點不偏移,有利于引晶和放肩,保證了坩堝內(nèi)的晶體各處生長速率一致。?? |
