一種清理裝置及晶體生長爐
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021394861.X | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN212560518U | 公開(公告)日 | 2021-02-19 |
申請公布號(hào) | CN212560518U | 申請公布日 | 2021-02-19 |
分類號(hào) | C30B35/00(2006.01)I;F27D21/02(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 付秀梅;彭銳敏 | 申請(專利權(quán))人 | 成都東駿激光股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 梁韜 |
地址 | 611600四川省成都市蒲江縣鶴山鎮(zhèn)工業(yè)開發(fā)區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種清理裝置及晶體生長爐,涉及清潔工具技術(shù)領(lǐng)域。清理裝置包括第一磁力件、第二磁力件及第三磁力件;第一磁力件和第二磁力件隔晶體生長爐的雙層玻璃觀察窗的內(nèi)層玻璃相互吸附,第三磁力件和第二磁力件隔晶體生長爐的雙層玻璃觀察窗的外層玻璃相互吸附。晶體生長爐安裝有上述的清理裝置,上述的清理裝置對晶體生長爐的雙層玻璃觀察窗上的爐內(nèi)揮發(fā)物和雙層玻璃內(nèi)滋生的青苔等物質(zhì)進(jìn)行清理,便于操作者觀察晶體生長爐內(nèi)的晶體生長情況,從而控制晶體生長爐內(nèi)晶體的生長。?? |
