一種等離子體剝除光纖涂覆層的方法和系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110783616.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113253388B 公開（公告）日 2021-09-10
申請公布號 CN113253388B 申請公布日 2021-09-10
分類號 G02B6/245 分類 光學(xué);
發(fā)明人 劉茵紫;王勇;蘭根書 申請（專利權(quán)）人 武漢聚合光子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢泰山北斗專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 董佳佳
地址 430000 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)光谷二路以東，高新五路以南鼎杰現(xiàn)代機(jī)電信息孵化園一期12幢2層1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明適用于光纖激光器技術(shù)領(lǐng)域，提供一種等離子體剝除光纖涂覆層的方法和系統(tǒng)，本發(fā)明將帶涂覆層的光纖置于充滿低溫等離子體的反應(yīng)管內(nèi)，等離子體的電子與活性基團(tuán)與光纖涂覆層材料發(fā)生反應(yīng)，解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面，最后將氣相物質(zhì)排出即可，實(shí)現(xiàn)光纖涂覆層超高潔凈度剝除，且不會對光纖表面造成損傷；另外，低溫等離子體溫度接近室溫，不會對光纖造成熱損傷或改變光纖波導(dǎo)結(jié)構(gòu)；此外，等離子體均勻存儲于腔室中，通過磁場驅(qū)動方式可使等離子體能夠快速在反應(yīng)管中均勻分布，從而實(shí)現(xiàn)更均勻、更高效地與石英光纖涂覆層反應(yīng)，保證涂覆剝除分界線平整。