一種等離子體剝除光纖涂覆層的方法和系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110783616.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113253388A | 公開（公告）日 | 2021-08-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113253388A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-13 |
| 分類號(hào) | G02B6/245 | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 劉茵紫;王勇;蘭根書 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 武漢聚合光子技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 武漢泰山北斗專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 董佳佳 |
| 地址 | 430000 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)光谷二路以東，高新五路以南鼎杰現(xiàn)代機(jī)電信息孵化園一期12幢2層1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明適用于光纖激光器技術(shù)領(lǐng)域，提供一種等離子體剝除光纖涂覆層的方法和系統(tǒng)，本發(fā)明將帶涂覆層的光纖置于充滿低溫等離子體的反應(yīng)管內(nèi)，等離子體的電子與活性基團(tuán)與光纖涂覆層材料發(fā)生反應(yīng)，解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面，最后將氣相物質(zhì)排出即可，實(shí)現(xiàn)光纖涂覆層超高潔凈度剝除，且不會(huì)對(duì)光纖表面造成損傷；另外，低溫等離子體溫度接近室溫，不會(huì)對(duì)光纖造成熱損傷或改變光纖波導(dǎo)結(jié)構(gòu)；此外，等離子體均勻存儲(chǔ)于腔室中，通過磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng)方式可使等離子體能夠快速在反應(yīng)管中均勻分布，從而實(shí)現(xiàn)更均勻、更高效地與石英光纖涂覆層反應(yīng)，保證涂覆剝除分界線平整。 |
