非屏下大面積指紋模組及電子設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120780784.X 申請日 -
公開（公告）號 CN214410027U 公開（公告）日 2021-10-15
申請公布號 CN214410027U 申請公布日 2021-10-15
分類號 G06K9/00（2006.01）I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 田永平 申請（專利權(quán)）人 上海思立微電子科技有限公司
代理機構(gòu) 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳燁;張印鐸
地址 201203上海市浦東新區(qū)盛夏路560號2幢1003室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開一種非屏下大面積指紋模組及電子設(shè)備，包括：背光單元，所述背光單元的上表面設(shè)有面光源；第一準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)，位于所述背光單元的上方；TFT傳感器，位于所述第一準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)的上方，所述TFT傳感器包括通光孔和感光模塊，所述通光孔位于所述感光模塊的周側(cè)，所述通光孔的寬度小于所述感光模塊的寬度；所述通光孔用于供由所述面光源發(fā)出且經(jīng)所述第一準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)準(zhǔn)直后的準(zhǔn)直光通過；所述感光模塊用于接收并感應(yīng)目標(biāo)信號光，所述目標(biāo)信號光為所述準(zhǔn)直光經(jīng)所述TFT傳感器上方的手指反射形成。該非屏下大面積指紋模組，不僅具有較大的識別面積，而且成本適中。