電子加速器輻照屏蔽室

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201720218624.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN206574502U 公開（公告）日 2017-10-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN206574502U 申請(qǐng)公布日 2017-10-20
分類號(hào) G21K5/10(2006.01)I;G21F7/015(2006.01)I 分類 核物理；核工程;
發(fā)明人 傅泳航;童滌;張利紅;鐘慧嫻;陳小菊 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 惠州華大輻照科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京精金石專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉曄
地址 516321 廣東省惠州市惠東縣大嶺鎮(zhèn)惠東產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開一種電子加速器輻照屏蔽室，包括通道和由多個(gè)屏蔽板圍設(shè)成的屏蔽室，通道入口的安全門上設(shè)有臉部識(shí)別鎖裝置，提高屏蔽室的屏蔽效果以及防止隨意進(jìn)入屏蔽室；屏蔽室內(nèi)設(shè)有電子槍、加速管、真空管、掃描盒、掃描磁鐵、束下傳輸裝置和導(dǎo)正裝置，加速管的外側(cè)設(shè)有聚焦與導(dǎo)向線圈，提高電子束能量，真空管外連接設(shè)有真空泵，確保良好的真空傳輸環(huán)境；屏蔽室的頂部設(shè)有圖像采集窗和換氣風(fēng)機(jī)以及MCU控制器，圖像采集窗外設(shè)有圖像采集裝置，采集屏蔽室內(nèi)輻照情況；而屏蔽室內(nèi)設(shè)有與MCU控制器連接的臭氧濃度監(jiān)測(cè)器，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)屏蔽室內(nèi)的臭氧濃度傳遞給MCU控制器，使其控制換氣風(fēng)機(jī)運(yùn)行，排出臭氧，提高屏蔽室內(nèi)輻照環(huán)境。