一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201420718920.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN204251701U 公開（公告）日 2015-04-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN204251701U 申請(qǐng)公布日 2015-04-08
分類號(hào) C23C14/56(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 吳曉彤 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中國建設(shè)銀行股份有限公司漳州龍文支行
代理機(jī)構(gòu) 福州君誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 戴雨君
地址 360000 福建省漳州市龍文區(qū)藍(lán)田鎮(zhèn)長山農(nóng)場龍文中學(xué)邊上
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種真空鍍膜艙的兩級(jí)抽真空結(jié)構(gòu)，其包括真空鍍膜艙本體，所述真空鍍膜艙本體的頂部設(shè)有第一抽真空管，所述第一抽真空管連接有第一抽真空裝置，所述真空鍍膜艙本體的側(cè)壁下部設(shè)有第二抽真空管，所述第二抽真空管連接有第二抽真空裝置。本實(shí)用新型能夠有效地避免在抽真空時(shí)，灰塵等雜質(zhì)對(duì)待鍍膜物品的影響，提高鍍膜的質(zhì)量。