一種基于多主元設(shè)計(jì)的含鎂中子靶及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110101050.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112930018A 公開（公告）日 2021-06-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN112930018A 申請(qǐng)公布日 2021-06-08
分類號(hào) H05H6/00;C22C30/00;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/58 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中科超睿（青島）技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 合肥律通專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 吳奇
地址 266199 山東省青島市李滄區(qū)金水路171號(hào)28號(hào)樓8樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于多主元設(shè)計(jì)的含鎂中子靶及其制備方法。采用銅、鉬及其合金作為襯底材料，在其表面鍍制包括鎂在內(nèi)的三種及以上儲(chǔ)氫材料元素作為主元的合金膜。本發(fā)明針對(duì)常用鈦靶片存在的吸氫密度低、膜與襯底結(jié)合力不強(qiáng)以及易氫脆粉化等問題，將具有高吸氫密度的鎂元素引入，利用多主元設(shè)計(jì)的雞尾酒效應(yīng)、晶格畸變效應(yīng)以及高熵效應(yīng)，充分發(fā)揮鎂元素吸氫密度高的特性，提高吸氫靶膜整體吸氫量。并通過高溫?zé)釘U(kuò)散處理，增強(qiáng)界面結(jié)合力。本發(fā)明技術(shù)方法使中子靶在提高吸氫密度的同時(shí)具有良好的穩(wěn)定性以及界面結(jié)合力，為提高中子源強(qiáng)以及中子靶使用壽命提供一種有效的途徑。