一種用于光波導(dǎo)晶圓生產(chǎn)的濕法清洗裝置及其清洗方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610366976.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN105977187B | 公開(kāi)（公告）日 | 2018-05-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN105977187B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-05-15 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L21/67;H01L21/02 | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 陳波;鄭煜;彭延斌;余朝晃 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 湖南新中合光電科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 練光東 |
| 地址 | 410083 湖南省湘西土家族苗族自治州保靖縣高新科技產(chǎn)業(yè)園區(qū) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及晶圓生產(chǎn)領(lǐng)域，具體涉及一種用于光波導(dǎo)晶圓生產(chǎn)的濕法清洗裝置及其清洗方法。該裝置包括設(shè)備框架，設(shè)備框架左右兩端均設(shè)有晶舟架，設(shè)備框架內(nèi)設(shè)有HPM清洗槽、SPM清洗槽、多個(gè)DI清洗槽、光刻板清洗槽、晶圓光刻膠清洗槽、BOE清洗槽、硬掩模清洗槽以及轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人；HPM清洗槽、SPM清洗槽、多個(gè)DI清洗槽、光刻板清洗槽、晶圓光刻膠清洗槽、BOE清洗槽和硬掩模清洗槽均設(shè)有自動(dòng)定時(shí)裝置，且HPM清洗槽、SPM清洗槽、晶圓光刻膠清洗槽和硬掩模清洗槽均設(shè)有自動(dòng)加熱裝置和恒溫裝置。該濕法清洗裝置可實(shí)現(xiàn)晶圓清洗的自動(dòng)化，其清洗方法提高了清洗效果。 |
