一種制造平面光波導(dǎo)器件的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201610279110.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN105739013B 公開（公告）日 2019-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN105739013B 申請(qǐng)公布日 2019-03-22
分類號(hào) G02B6/132（2006.01）I; G02B6/138（2006.01）I; G02B6/13（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 陳波; 鄭煜; 彭延斌; 余朝晃 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 湖南新中合光電科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 李相雨
地址 410083 湖南省長(zhǎng)沙市湘西自治州保靖縣高新科技產(chǎn)業(yè)園區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種制造平面光波導(dǎo)器件的方法。該制造平面光波導(dǎo)器件的方法包括：在晶圓襯底上沉積光波導(dǎo)芯層；退火硬化，使得所述芯層致密均勻；采用物理氣相沉積法形成金屬掩膜層；涂光刻膠，并進(jìn)行曝光顯影；去光刻膠，反應(yīng)離子刻蝕金屬掩膜；感應(yīng)耦合刻蝕芯層；采用火焰水解沉積光波導(dǎo)上包層；退火硬化，使得上包層致密均勻；其中，所述晶圓襯底的氫氧根離子小于200PPM，表面殘余應(yīng)力小于1MPa。本發(fā)明提供的制造平面光波導(dǎo)器件的方法，無(wú)需制做下包層，直接在符合要求的晶圓襯底上沉積光波導(dǎo)芯層，減少了制造步驟及工序環(huán)節(jié)。