基于深度學(xué)習(xí)的布局后布線違例預(yù)測方法及可讀存儲介質(zhì)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011437109.3 申請日 -
公開(公告)號 CN112233115B 公開(公告)日 2021-05-07
申請公布號 CN112233115B 申請公布日 2021-05-07
分類號 G06T7/00(2017.01)I 分類 -
發(fā)明人 樊沁春;張曦;李楠 申請(專利權(quán))人 西安國微半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安嘉思特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 閆家偉
地址 710000陜西省西安市高新區(qū)丈八街辦科技二路72號西安軟件園零壹廣場10901室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于深度學(xué)習(xí)的布局后布線違例預(yù)測方法及可讀存儲介質(zhì),包括:按照預(yù)設(shè)窗口對第一版圖信息進(jìn)行分割,以得到每個預(yù)設(shè)窗口對應(yīng)的第一特征信息;根據(jù)第一特征信息得到每個第一特征信息對應(yīng)的第一特征圖像;根據(jù)同一預(yù)設(shè)窗口對應(yīng)的所有第一特征圖像得到第一五維張量圖像;根據(jù)預(yù)設(shè)窗口得到對應(yīng)的第一設(shè)計規(guī)則違反圖像;得到訓(xùn)練完的第一網(wǎng)絡(luò)模型;基于訓(xùn)練完的第一網(wǎng)絡(luò)模型,得到第一訓(xùn)練模型;得到第二訓(xùn)練模型;得到最終訓(xùn)練模型;將待預(yù)測數(shù)據(jù)輸入至最終訓(xùn)練模型得到預(yù)測結(jié)果。本發(fā)明在設(shè)計規(guī)則違反非常多的情況下可以及時的調(diào)整布局,可以指導(dǎo)布局優(yōu)化,減少布線后的設(shè)計規(guī)則違反,優(yōu)化布局布線流程。??