用于高效率拋光含鍺基材的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)組合物
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201580068363.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN107406721A | 公開(公告)日 | 2017-11-28 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN107406721A | 申請(qǐng)公布日 | 2017-11-28 |
分類號(hào) | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
發(fā)明人 | M·西伯特;M·勞特爾;蘭永清;R·賴夏特;A·明希;M·??怂?G·丹尼爾;B·M·諾勒;K·黃;S·A·奧斯曼易卜拉欣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 巴斯夫(中國)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人 | 劉娜;劉金輝 |
地址 | 德國路德維希港 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)組合物(Q),其包含:(A)無機(jī)顆粒,(B)通式(I)化合物,(C)含水介質(zhì),其中該組合物(Q)的pH為2至6。 |
