一種具有外延層的復(fù)合襯底

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721256478.6 申請日 -
公開（公告）號 CN207338396U 公開（公告）日 2018-05-08
申請公布號 CN207338396U 申請公布日 2018-05-08
分類號 H01L31/0236;H01L31/0392 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李國強;李潔 申請（專利權(quán)）人 佛山市艾佛光通科技有限公司
代理機構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 王國標(biāo)
地址 510700 廣東省廣州市黃埔區(qū)開源大道136號B2棟1103室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種具有外延層的復(fù)合襯底，其特征在于，包括轉(zhuǎn)移硅襯底，轉(zhuǎn)移硅襯底上的粘附層，粘附層上的阻擋層，阻擋層上的鍵合層，及鍵合層上的外延層；所述鍵合層所用金屬為Au和Sn，鍵合層厚度≦3μm。粘附層可以改善外延層與襯底之間的粘附性能，使得外延層不易脫落，阻擋層可以很好地阻止鍵合層中的金屬擴散，保護(hù)鍵合層的鍵合結(jié)構(gòu)，鍵合層使用Sn和Au，Sn和Au形成AuSn共熔物保證了鍵合強度，并且Au可以阻止Sn的氧化，避免鍵合層中出現(xiàn)孔洞。本實用新型應(yīng)用于光電子基成器件制備。