一種WCVD半導(dǎo)體設(shè)備的氣體噴淋頭

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202121487964.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215612436U 公開（公告）日 2022-01-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN215612436U 申請(qǐng)公布日 2022-01-25
分類號(hào) B05B1/30（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 陳兆榮 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 賽林斯彌（無錫）電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 湖南楚墨知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 麥振聲
地址 214000江蘇省無錫市錫山區(qū)安鎮(zhèn)街道丹山路88號(hào)錫東創(chuàng)融大廈C座1210
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及氣體噴淋頭技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種WCVD半導(dǎo)體設(shè)備的氣體噴淋頭，包括噴頭、第一緩沖腔、限流框和導(dǎo)氣管，所述噴頭內(nèi)部的頂端設(shè)置有第一緩沖腔，且第一緩沖腔的底端設(shè)置有第一氣孔，所述噴頭頂端的中間位置固定連接有限流框，且限流框的一側(cè)固定設(shè)置有第一滑槽，并且限流框頂端的一側(cè)固定設(shè)置有第二滑槽。本實(shí)用新型通過固定塊一側(cè)的電動(dòng)推桿推動(dòng)第一滑塊，可以使第一滑塊在限流框上的第一滑槽內(nèi)滑動(dòng)，并帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)件在限流框的內(nèi)部進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，同時(shí)旋轉(zhuǎn)件的頂端設(shè)置有活動(dòng)塊，通過旋轉(zhuǎn)件旋轉(zhuǎn)，可以使活動(dòng)塊底端的第三滑塊在第三滑槽上滑動(dòng)，并使活動(dòng)塊頂端的第二滑塊在第二滑槽上滑動(dòng)，通過活動(dòng)塊的移動(dòng)，可以調(diào)節(jié)輸氣孔的大小。