一種電致調(diào)光薄膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111310854.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114086135A 公開（公告）日 2022-02-25
申請公布號 CN114086135A 申請公布日 2022-02-25
分類號 C23C14/35（2006.01）I;G02F1/137（2006.01）I;G02F1/15（2019.01）I;C09K19/38（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉延寧;陳珂珩 申請（專利權(quán)）人 蘇州瑞納新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 南京常青藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 袁夫文
地址 215000江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)蘇勝東路勝港街88號一樓、三樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種電致調(diào)光薄膜的制備方法，包括如下步驟：步驟1：對基板表面處理：步驟2：在步驟1得到的基板的單面層進行磁控濺射鍍制導(dǎo)電膜層；步驟3：將丙烯酸液晶樹脂單體、丙烯酸酯單體、乙烯基醚單體、乙二醇苯基醚單體、光引發(fā)劑、促進劑按比例充分混合均勻，再加入液晶單體與間隔子混合攪拌均勻，再經(jīng)脫泡后，制得液晶層；步驟4：通過步驟2的兩個基板鍍膜面夾合步驟3的液晶層，輥壓基板外側(cè)面層，使液晶層形成液晶薄膜，對液晶薄膜施加電場，再對液晶薄膜進行紫外光固化，其后在基板邊緣部分涂布液態(tài)光學(xué)膠LOCA覆蓋。本發(fā)明制備成型的調(diào)光薄膜驅(qū)動電壓較低，具有優(yōu)異的對光線透過率的調(diào)光效果，成型致密，整體穩(wěn)定兼容性好。