一種輻射取向燒結(jié)磁環(huán)的處理方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810589072.2 申請日 -
公開（公告）號 CN108922764A 公開（公告）日 2021-06-04
申請公布號 CN108922764A 申請公布日 2021-06-04
分類號 H01F41/02 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 成問好;魏方允;王嚴;成走程 申請（專利權(quán)）人 深圳市瑞達美磁業(yè)有限公司
代理機構(gòu) 北京煦潤律師事務(wù)所 代理人 梁永芳
地址 518013 廣東省深圳市寶安區(qū)公明鎮(zhèn)油麻崗工業(yè)區(qū)19號B2棟二樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種輻射取向燒結(jié)磁環(huán)的處理方法，在滲透過程中，磁環(huán)與目標(biāo)滲透源之間除了目標(biāo)滲透源元素相對于磁環(huán)的原子擴散遷移運動以外，目標(biāo)滲透源與磁環(huán)的宏觀位置不是相對固定的，而是存在宏觀相對運動，該宏觀相對運動并不包括球磨運動；所述宏觀相對運動是滲透過程中磁環(huán)與目標(biāo)滲透源之間的旋轉(zhuǎn)或攪拌運動；所述磁環(huán)采用旋轉(zhuǎn)磁場進行輻射取向成型得到。該方法提高了輻射取向燒結(jié)磁環(huán)的磁性能，在剩磁沒有出現(xiàn)明顯降低的情況下，矯頑力大幅提高，磁通熱衰減顯著降低，同時具有優(yōu)良的磁性能、熱穩(wěn)定性。