下模沖組件、輻射環(huán)壓制裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202020042025.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211939037U | 公開(公告)日 | 2020-11-17 |
申請公布號 | CN211939037U | 申請公布日 | 2020-11-17 |
分類號 | B22F3/03;B22F5/10 | 分類 | 鑄造;粉末冶金; |
發(fā)明人 | 董永安;成問好 | 申請(專利權)人 | 深圳市瑞達美磁業(yè)有限公司 |
代理機構 | 北京煦潤律師事務所 | 代理人 | 深圳市瑞達美磁業(yè)有限公司;太原開元智能裝備有限公司 |
地址 | 030008 山西省太原市鋼園路73號太原不銹鋼產(chǎn)業(yè)園區(qū)A區(qū)16號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種下模沖組件、輻射環(huán)壓制裝置。其中下模沖組件,包括沖模組件、旋轉(zhuǎn)平臺,所述沖模組件裝設于所述旋轉(zhuǎn)平臺上,當所述旋轉(zhuǎn)平臺被驅(qū)動旋轉(zhuǎn)時其帶動所述沖模組件旋轉(zhuǎn),所述沖模組件與所述旋轉(zhuǎn)平臺之間設置有彈性件,所述彈性件的伸縮方向處于所述沖模組件的沖壓方向上。本發(fā)明提供的一種下模沖組件、輻射環(huán)壓制裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)對輻射環(huán)的浮動壓制,能夠有效提高輻射環(huán)的均勻性,同時采用彈性件取代現(xiàn)有技術中的針對下模沖組件設置的壓力缸,簡化了下模沖組件的結構與控制。 |
