誠(chéng)芯
南京誠(chéng)芯集成電路技術(shù)研究院有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息0
專利信息19
序號(hào) | 專利名稱 | 專利類型 | 申請(qǐng)?zhí)?/th> | 公開(公告)號(hào) | 公布日期 |
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1 | 一種判斷通孔開路缺陷的方法 | 發(fā)明專利 | CN202111414177.2 | CN114119544A | 2022-03-01 |
2 | 一種篩選光學(xué)系統(tǒng)像差敏感度的方法 | 發(fā)明專利 | CN202111448235.3 | CN114114853A | 2022-03-01 |
3 | 一種光刻套刻標(biāo)識(shí)設(shè)計(jì)方法 | 發(fā)明專利 | CN201911388384.8 | CN110908256B | 2021-11-26 |
4 | 一種應(yīng)對(duì)應(yīng)力影響套刻誤差的方法和系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN202110617362.5 | CN113376971A | 2021-09-10 |
5 | 一種用于掩模制造和激光直寫光刻的雙重直寫方法 | 發(fā)明專利 | CN202010582950.5 | CN111781801B | 2021-07-23 |
6 | 倒梯形或T型結(jié)構(gòu)的工藝質(zhì)量評(píng)估方法及系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN201910993367.0 | CN110728097B | 2021-06-22 |
7 | 倒梯形或T型結(jié)構(gòu)的工藝質(zhì)量評(píng)估方法及系統(tǒng) | 發(fā)明專利 | CN201910993367.0 | CN110728097A | 2021-06-22 |
8 | 一種基于機(jī)器學(xué)習(xí)確定光刻系統(tǒng)焦面位置的方法 | 發(fā)明專利 | CN201910993362.8 | CN110727178B | 2021-06-22 |
9 | 一種基于機(jī)器學(xué)習(xí)確定光刻系統(tǒng)焦面位置的方法 | 發(fā)明專利 | CN201910993362.8 | CN110727178A | 2021-06-22 |
10 | 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的監(jiān)控和數(shù)據(jù)的篩選方法 | 發(fā)明專利 | CN202110134784.7 | CN112885731A | 2021-06-01 |
軟件著作權(quán)7
序號(hào) | 軟件名稱 | 軟件簡(jiǎn)稱 | 版本號(hào) | 登記號(hào) | 分類號(hào) | 首次發(fā)表日期 | 登記批準(zhǔn)日期 |
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1 | 集成電路納米高精度尺寸和粗糙度表征系統(tǒng) | iCDMeT | V1.0 | 2020SR0571064 | - | - | 2020-06-04 |
2 | 集成電路孔型結(jié)構(gòu)尺寸和缺陷測(cè)量系統(tǒng) | CirleEdgeFinding_PSD | V1.0 | 2020SR0571058 | - | - | 2020-06-04 |
3 | 集成電路對(duì)準(zhǔn)質(zhì)量仿真和工藝參數(shù)優(yōu)化系統(tǒng) | GUIforAlignment | V1.0 | 2020SR0571051 | - | - | 2020-06-04 |
4 | 集成電路版圖處理軟件 | GDSViewer | V1.0 | 2020SR0571044 | - | - | 2020-06-04 |
5 | Virtual Fab集成電路虛擬制造仿真系統(tǒng) | Virtual Fab | V1.0 | 2020SR0571037 | - | - | 2020-06-04 |
6 | 集成電路版圖光刻像質(zhì)分析軟件 | ProjSimu | V1.0 | 2020SR0571029 | - | - | 2020-06-04 |
7 | 誠(chéng)芯投影光刻光學(xué)成像仿真軟件 | DUVLithoSimu | V1.0 | 2020SR0386600 | 10100-0000 | 2019-10-15 | 2020-04-27 |
作品著作權(quán)0
網(wǎng)站備案2
序號(hào) | 網(wǎng)站名 | 網(wǎng)址 | 備案號(hào) | 主辦單位性質(zhì) | 審核日期 |
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1 | 微電子制造學(xué)報(bào) | www.jommpublish.com | 蘇ICP備20021958號(hào) | 企業(yè) | 2020-04-30 |
2 | 微電子制造學(xué)報(bào) | www.lithotechsolutions.com | 蘇ICP備20021958號(hào) | 企業(yè) | 2020-04-30 |
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